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CVD(化学气相沉积)技术 特气柜是如何参与其中的?

2020-10-24 10:33:07    责任编辑: 特气柜设计制造公司     0

CVD(化学气相沉积),是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料、大多数金属材料和金属合金材料。那特气柜是如何参与到CVD技术的生产过程中去的呢?


CVD(化学气相沉积)是一种化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。



因为CVD使用的原材料气体大多是特种气体,具有一定的危险性,所以对这些气体使用就需要用到特气系统。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的,而硅烷(SiH4)是一种在室温下能着火、在空气或卤素气体中能爆炸性燃烧的剧毒性特种气体,所以,为保证硅烷安全使用需用到特气柜。


沃飞WOFLY全自动特气柜(GC)的柜体采用防腐蚀涂层,且板材厚底不得低于2.5mm,同时配有防爆观察窗,可以随时观察柜内变化;特气柜的报警侦测警报功能齐全,并在柜门关闭情况下,特气柜内部都处于负压状态,可第一时间发现泄漏并阻止泄漏气体扩散;其中包括自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断(当设定报警信号被触发时)在内的基本功能,也是生产安全和员工人身安全的有力保障。



沃飞WOFLY全自动特气柜(GC)通过PLC面板,配合触摸屏进行系统显示和设定,从而实现设备安全有效的运行。其内部PLC程式设计的安全联锁功能、高纯阀件的合理选择和布局,既满足了CVD(化学气相沉积)在生产过程中对气体原材料的高纯度和连续稳定供给的要求,也确保了正常生产和员工人身安全。



CVD(化学气相沉积)是传统的制备薄膜的技术,应用广泛,以上内容就是关于CVD技术和特气柜在CVD中所占的一席之地的简单介绍,感谢您的阅读,更多气体资讯,请关注我们!