随着生产工艺对物料、介质的纯度要求不断提高，首先催生了不纯物控制技术的发展，后以该技术为核心逐步演化成了——高纯工艺系统，实现了整个生产过程的不纯物控制。

和传统的制造业相比，泛半导体等现代制造业自诞生那刻起就一直朝精密化、微型化方向发展。从第一个晶体管到7纳米的华为麒麟980，制程中的精细加工、精细控制一直是生产工艺的关键环节，而在几乎所有和"精细"相关的技术中，都绕不开“杂质”两个字。

杂质的危害性

在泛半导体等现代制造业中，杂质对制程的结果都会产生不利甚至极为有害的影响。比如：在极低温度（-270℃）下，微量的氧和水会变成坚硬无比的固体，成为透平机的天敌；在手术中少量的病菌会产生致命的影响；微量的特种元素会改变钢铁的性能；空气中悬浮的颗粒会影响精密加工仪器（陀螺仪）的性能；百万分之一以下的氧水含量会使大量的大规模集成电路芯片报废。

高纯工艺系统的发展不仅实现了对杂质的控制，还能让高纯介质不会因吸附气体和水分、脱放气、产生颗粒等原因受到污染，保证介质纯度，使介质满足生产工艺的纯度要求。

从上面的简单描述中，想必你已经明白杂质在和"精细"相关的技术中的危害性是巨大的。高纯工艺系统能实现对整个生产过程的不纯物控制。最后，感谢您的阅读！